感光性レジスト

感光性レジスト（Photoresist）とは、光によって化学反応を起こす特性を持つ樹脂材料であり、プリント基板の回路パターン形成に欠かせない素材です。

この材料は、基板表面に均一に塗布された後、露光装置で光を照射して使用します。
光が当たった部分と当たらなかった部分で化学反応が異なり、現像工程で不要部分を溶解除去することで、精密な回路パターンが形成されます。

感光性レジストには、ポジ型（露光部分が溶解）とネガ型（露光部分が硬化）の2種類があります。
用途や工程に応じて使い分けることで、高精度・高密度なパターン形成が可能になります。

さらに、感光性レジストは耐熱性・耐薬品性・密着性にも優れており、エッチングやメッキなどの厳しい化学処理にも耐えることができます。
そのため、プリント基板だけでなく、半導体製造・MEMS・電子デバイスなど、さまざまな分野でも広く利用されています。

現在では、高周波対応や微細加工に対応するため、高解像度タイプや低反射タイプなど、より高性能なレジストの開発が進められています。