ファインパターン

ファインパターン（Fine Pattern）とは、プリント基板上に形成される微細な導体配線（ライン）やスペース（間隔）を指します。
一般的に、ライン幅・ライン間隔が100μm以下の領域を「ファインパターン」と呼びます。

電子機器の小型化・高密度化・高速信号化が進む中で、ファインパターン技術は不可欠となっています。
特に、スマートフォン、半導体パッケージ、通信機器、車載ECUなどでは、
限られたスペースに多数の信号線を通す必要があり、微細配線の形成精度が製品性能を左右します。

ファインパターン形成には、以下のような高精度プロセスが用いられます：

• レーザー露光・LDI（Laser Direct Imaging）技術

• 高解像度フォトレジストの使用

• ドライフィルムや液状レジストによる微細エッチング制御

正確なファインパターンを形成することで、信号損失・クロストークの低減、回路の安定動作が可能となり、
高性能・高信頼性の電子機器開発に貢献します。